ʻO ke ʻano no ka hoʻomākaukau ʻana i ka uhi silika carbide

I kēia manawa, nā ʻano hoʻomākaukau oKa uhi ʻana o SiCʻO ka mea nui e pili ana i ke ʻano gel-sol, ke ʻano hoʻopili, ke ʻano o ka uhi ʻana i ka pulupulu, ke ʻano hoʻoheheʻe ʻana i ka plasma, ke ʻano hoʻoheheʻe kinoea kemika (CVR) a me ke ʻano deposition vapor deposition (CVD).

ʻano hoʻokomo:

ʻO ke ʻano he ʻano o ka sintering paʻa paʻa kiʻekiʻe, ka mea nui e hoʻohana i ka hui ʻana o ka pauka Si a me ka pauka C e like me ka pauka embedding, kau ʻia ka graphite matrix i ka pauka embedding, a lawe ʻia ka sintering kiʻekiʻe i ke kinoea inert. , a hope loa kaKa uhi ʻana o SiCloaʻa ma ka ʻili o ka matrix graphite. He maʻalahi ke kaʻina hana a he maikaʻi ka hui ʻana ma waena o ka uhi a me ka substrate, akā maikaʻi ke ʻano like o ka uhi ʻana ma ka ʻaoʻao o ka mānoanoa, he mea maʻalahi ia e hana i nā lua hou aʻe a alakaʻi i ka pale ʻana i ka oxidation.

 

ʻO ke ʻano o ka uhi ʻana i ka pulupulu:

ʻO ke ʻano o ka uhi ʻana i ka pulupulu ka mea nui e palaki i ka wai maka wai ma ka ʻili o ka graphite matrix, a laila hoʻōla i ka mea maka i kahi mahana e hoʻomākaukau ai i ka uhi. He mea maʻalahi ke kaʻina hana a he haʻahaʻa ke kumukūʻai, akā nāwaliwali ka uhi i hoʻomākaukau ʻia e ke ʻano o ka uhi ʻana me ka substrate, maikaʻi ke ʻano o ka uhi ʻana, ʻeleʻele ka uhi a haʻahaʻa ke kūpaʻa o ka oxidation, a pono nā ʻano hana ʻē aʻe e kōkua ai. ia.

 

ʻO ke ʻano hoʻoheheʻe plasma:

ʻO ke ʻano o ka hoʻoheheʻe ʻana i ka plasma ka mea maʻamau e hoʻoheheʻe ʻia a i ʻole semi-melted mau mea maka ma ka ʻili o ka graphite matrix me kahi pū plasma, a laila paʻa a paʻa e hana i kahi uhi. He maʻalahi ke ʻano o ka hana a hiki ke hoʻomākaukau i kahi uhi silicon carbide paʻa, akā ʻo ka silicon carbide coating i hoʻomākaukau ʻia e ke ʻano he nāwaliwali loa a alakaʻi i ke kūpaʻa oxidation nāwaliwali, no laila hoʻohana maʻamau ia no ka hoʻomākaukau ʻana i ka uhi ʻana o SiC composite e hoʻomaikaʻi. ka maikaʻi o ka uhi.

 

ʻO ke ala gel-sol:

ʻO ke ʻano gel-sol ka mea maʻamau e hoʻomākaukau i kahi hopena sol ʻokoʻa a ʻālohilohi e uhi ana i ka ʻili o ka matrix, e hoʻomaloʻo i kahi gel a laila sintering e loaʻa kahi uhi. He maʻalahi kēia ʻano hana a haʻahaʻa i ke kumukūʻai, akā ʻo ka uhi i hana ʻia he mau hemahema e like me ka haʻahaʻa haʻahaʻa haʻahaʻa haʻahaʻa haʻahaʻa a me ka maʻalahi maʻalahi, no laila ʻaʻole hiki ke hoʻohana nui ʻia.

 

Pāʻani kinoea kinoea (CVR):

Hoʻopuka nui ʻia ʻo CVRKa uhi ʻana o SiCma ka hoʻohana ʻana i ka pauka Si a me SiO2 e hoʻohua ai i ka mahu SiO ma ka wela kiʻekiʻe, a ke ʻano o nā hopena kemika ma ka ʻili o ka substrate material C. ʻO kaKa uhi ʻana o SiCi hoʻomākaukau ʻia e kēia ʻano hana i pili pono i ka substrate, akā ʻoi aku ka kiʻekiʻe o ka wela o ka hopena a ʻoi aku ke kumukūʻai.

 

Hoʻopaʻa ʻia ka mahu (CVD):

I kēia manawa, ʻo CVD ka ʻenehana nui no ka hoʻomākaukau ʻanaKa uhi ʻana o SiCma ka ʻili o ka substrate. ʻO ke kaʻina hana nui he pūʻulu o ke kino a me ke kemika o nā mea hoʻoheheʻe kinoea ma ka ʻili o ka substrate, a ma hope o ka hoʻomākaukau ʻana o ka uhi SiC ma ka waiho ʻana ma ka ʻili substrate. ʻO ka uhi SiC i hoʻomākaukau ʻia e ka ʻenehana CVD ua paʻa paʻa i ka ʻili o ka substrate, hiki ke hoʻomaikaʻi maikaʻi i ka pale ʻana o ka oxidation a me ke kūpaʻa ablative o ka mea substrate, akā ʻoi aku ka lōʻihi o ka manawa deposition o kēia ʻano, a ʻo ke kinoea hoʻohālikelike he mea ʻona. kinoea.