He aha ka ulu epitaxial?

ʻO ka ulu ʻana o ka epitaxial kahi ʻenehana e hoʻoulu ai i kahi ʻāpana aniani hoʻokahi ma luna o kahi substrate kristal hoʻokahi (substrate) me ke ʻano aniani like me ka substrate, me he mea lā ua hoʻonui ʻia ka aniani mua i waho.Hiki ke ʻokoʻa ke ʻano o ke ʻano conductivity, resistivity, a me nā mea ʻē aʻe, a hiki ke ulu i nā kristal hoʻokahi multi-layer me nā mānoanoa like ʻole a me nā koi like ʻole, pēlā e hoʻomaikaʻi nui ai i ka maʻalahi o ka hoʻolālā ʻana a me ka hana ʻana o ka mea hana.Eia kekahi, ua hoʻohana nui ʻia ke kaʻina hana epitaxial i ka ʻenehana hoʻokaʻawale PN junction i nā kaʻa i hoʻohui ʻia a me ka hoʻomaikaʻi ʻana i ka maikaʻi o nā mea i loko o nā kaʻa hui nui.

Hoʻokumu ʻia ka hoʻokaʻawale ʻana o ka epitaxy ma nā ʻano mea like ʻole o ka substrate a me ka papa epitaxial a me nā ʻano ulu ulu.
Wahi a nā haku mele like ʻole, hiki ke hoʻokaʻawale ʻia ka ulu epitaxial i ʻelua ʻano:

1. Homoepitaxial: I kēia hihia, ua like ka papa hana epitaxial me ka substrate.No ka laʻana, ulu pono nā papa epitaxial silika ma luna o nā substrate silika.

2. Heteroepitaxy: Maʻaneʻi, ʻokoʻa ke ʻano kemika o ka papa epitaxial mai ka substrate.No ka laʻana, hoʻoulu ʻia kahi papa epitaxial gallium nitride ma kahi substrate sapphire.

Wahi a nā ʻano ulu ulu, hiki ke hoʻokaʻawale ʻia ka ʻenehana ulu epitaxial i nā ʻano like ʻole:

1. Molecular beam epitaxy (MBE): He ʻenehana kēia no ka hoʻoulu ʻana i nā kiʻi ʻoniʻoni ʻoniʻoni aniani hoʻokahi ma nā substrates kristal hoʻokahi, i loaʻa ma ka hoʻomalu pono ʻana i ka molecular beam flow rate and beam density in ultra-high vacuum.

2. Metala-organic chemical vapor deposition (MOCVD): Ke hoʻohana nei kēia ʻenehana i nā mea hoʻohui metala-organic a me nā mea hoʻoheheʻe kinoea e hana i nā hopena kemika ma nā wela kiʻekiʻe e hana i nā mea kiʻiʻoniʻoni lahilahi i makemake ʻia.Loaʻa iā ia nā noi ākea i ka hoʻomākaukau ʻana i nā mea semiconductor compound a me nā mea hana.

3. Liquid phase epitaxy (LPE): Ma ka hoʻohui ʻana i nā mea wai i ka substrate aniani hoʻokahi a me ka hoʻokō ʻana i ka mālama wela ma kekahi ʻano wela, ua crystallize ka mea wai e hana i hoʻokahi kiʻi aniani.ʻO nā kiʻiʻoniʻoni i hoʻomākaukau ʻia e kēia ʻenehana he lattice-match i ka substrate a hoʻohana pinepine ʻia e hoʻomākaukau i nā mea semiconductor compound a me nā mea hana.

4. Vapor phase epitaxy (VPE): Hoʻohana i nā mea hoʻoheheʻe kinoea e hana i nā hoʻoheheʻe kemika ma nā wela kiʻekiʻe e hoʻohua i nā mea kiʻiʻoniʻoni lahilahi i makemake ʻia.He kūpono kēia ʻenehana no ka hoʻomākaukau ʻana i nā kiʻi ʻoniʻoni kristal hoʻokahi kiʻekiʻe, a ʻoi aku ka maikaʻi o ka hoʻomākaukau ʻana i nā mea semiconductor compound a me nā mea hana.

5. Chemical beam epitaxy (CBE): Ke hoʻohana nei kēia ʻenehana i nā kukuna kemika e hoʻoulu i nā kiʻi ʻoniʻoni ʻoniʻoni hoʻokahi ma nā substrates aniani hoʻokahi, i loaʻa ma ka hoʻomalu pono ʻana i ka kahe kahe o ke kinikini a me ka nui o ka beam.Loaʻa iā ia nā noi ākea i ka hoʻomākaukau ʻana i nā kiʻi ʻoniʻoni lahilahi aniani kiʻekiʻe.

6. Atomic layer epitaxy (ALE): Me ka hoʻohana ʻana i ka ʻenehana deposition layer atomic, ua waiho ʻia nā mea kiʻi ʻoniʻoni lahilahi i makemake ʻia ma ka papa ma luna o kahi substrate kristal hoʻokahi.Hiki i kēia ʻenehana ke hoʻomākaukau i nā kiʻi ʻoniʻoni aniani hoʻokahi kiʻekiʻe a hoʻohana pinepine ʻia no ka hoʻomākaukau ʻana i nā mea semiconductor compound a me nā mea hana.

7. Epitaxy pā wela (HWE): Ma o ka hoʻomehana wela kiʻekiʻe, waiho ʻia nā mea hoʻoheheʻe kinoea ma luna o kahi pani aniani hoʻokahi e hana i hoʻokahi kiʻi aniani.He kūpono hoʻi kēia ʻenehana no ka hoʻomākaukau ʻana i nā kiʻi ʻoniʻoni kristal hoʻokahi kiʻekiʻe, a hoʻohana pono ʻia i ka hoʻomākaukau ʻana i nā mea semiconductor compound a me nā mea hana.